Los sistemas de litografía basados en láseres ultravioleta con una longitud de onda de 193 nm precisan de materiales que proporcionen una alta reflectividad al ultravioleta en esa longitud de onda.

La Academia China de Ciencias acaba de presentar un nuevo recubrimiento multicapa basado en Al2O3/AlF3 y LaF3/AlF3 con una reflectividad entre los 185 y los 205 nm que supera el 95%, llegando a alcanzar valores de cerca del 99%, presentando además una elevada estabilidad en el tiempo. Aunque estos recubrimientos todavía pueden mejorar su efectividad aún más y presentan bastantes ventajas respecto a los materiales usados actualmente en lo referente a su producción, también hay problemas debido a la aparición de grietas en la capa reflectante, lo que puede limitar su uso.

Desde aquí esperamos que las futuras investigaciones llevadas a cabo por el grupo permitan verificar la idoneidad de los recubrimientos y hagan posible pasar de la escala de laboratorio a la industrial.

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